等离子体/化学刻蚀设备——等离子刻蚀机简介

        等离子蚀刻机又称等离子蚀刻机、等离子平面蚀刻机、等离子蚀刻机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子蚀刻是干蚀刻见的形式。原理是暴露在电子区的气体形成等离子体。由此产生的电离气体和释放出的高能电子组成的气体形成等离子体或离子。 , 当电离的气体原子被电场加速时，它们会释放出足够的力以将材料与表面排斥力紧密结合或蚀刻表面。在某种程度上，等离子清洗本质上是等离子蚀刻的温和情况。干蚀刻工艺的设备包括反应室、电源和真空部分。工件被送入由真空泵抽真空的反应室。气体被引入并与等离子体交换。等离子体在工件表面发生反应，反应产生的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体蚀刻工艺实际上是一种反应等离子体工艺。最近的发展是在反应室内安装搁板形式。这种设计是灵活的。用户可以卸下搁板来配置合适的等离子蚀刻方法：反应等离子（RIE）、下游等离子体（downstream）、直接等离子（direction Plasma）。