等离子清洗机的几种频率区别与运用

        常用的等离子体激发频率有3种：40kHz等离子体为超声等离子体，13.56MHz等离子体为射频等离子体，2.45GHz等离子体为微波等离子体。不同等离子体产生的自偏置电压是不同的。超声等离子体的自偏置电压在1000V左右，射频等离子体的自偏置电压在250V左右，而微波等离子体的自偏置电压很低，只有几十伏。这种等离子体的机制是不同的。
        超声波等离子体（40KHZ）的反应是物理反应，射频等离子体（13.56MHZ）的反应既有物理反应，也有化学反应，微波等离子体（2.45GHZ）的反应是化学反应。
        超声波等离子清洗对被清洗表面的影响很大，所以实际半导体生产应用中多采用射频等离子清洗和微波等离子清洗。
        超声波等离子体用于表面去胶、毛刺抛光、材料亲水等处理。典型的物理等离子体清洗工艺是在反应室中加入氩气作为辅助处理进行等离子体清洗；氩气本身是惰性的等离子体的氩气不与表面反应，而是通过离子轰击清洁表面。
        基于物理反应的等离子清洗，也称为溅射蚀刻（SPE）或离子铣削（IM），其优点是不发生化学反应，清洗表面不留下任何氧化物，可保持其化学纯度。清洗材料方面，典型的等离子化学清洗工艺是氧等离子清洗。等离子体产生的氧自由基非常活跃，容易与碳氢化合物反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等挥发性物质，从而去除表面污染物。
        射频等离子清洗，通过加入不同的气体，可以使表面反应机理中的物理化学反应发挥重要作用，即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀。两种清洗可以相互促进，离子轰击可以对清洗表面造成破坏，削弱其化学键或形成原子态，容易吸附反应物，离子碰撞加热被清洗物体，使反应更容易；
         2.45G微波等离子体目前在国内使用较少。