膜厚仪的特点及技术参数

        膜厚仪又称膜厚仪、膜厚测试仪。分为磁感应涂层测厚仪、涡流涂层测厚仪、荧光X射线涂层测厚仪。使用磁感应原理时，涂层的厚度是通过从探头通过非铁磁涂层流入铁磁基体的磁通量的大小来测量的。也可以测量相应磁阻的大小来表示涂层的厚度。
        可用于在线膜厚测量、氧化物、感光保护膜、半导体膜等。它还可用于测量涂在钢、铝、铜、陶瓷和塑料上的粗糙薄膜层。薄膜表面或界面 反射光会干扰来自基材的反射光。干涉的发生与薄膜的厚度和折射率有关，因此可以计算薄膜的厚度。光学干涉仪是一种无损、快速的光学薄膜厚度测量技术，薄膜测量系统利用光学干涉原理来测量薄膜的厚度。
        膜厚仪的特点
        1、可测量多层膜中各层的厚度
        2、三维厚度剖面
        3、遥控及在线测量
        4、可以做大范围150mm或300mm的扫描测试

        5、丰富的素材库：操作软件的素材库有大量素材的n、k数据，基本常用素材都包含在这个素材库中。用户还可以输入材料库中没有的材料。

         6、软件操作简单，测量速度快：膜厚测量仪操作非常简单，测量速度快： 100ms-1s。

         7、软件具有建筑材料结构扩展功能，可对单/多层薄膜数据进行拟合分析，可进行薄膜材料的预仿真设计。
         8、软件具有可升级的扫描功能，对薄膜进行二维测试，并以2D或3D形式显示结果。软件的其他升级功能包括在线分析软件、远程控制模块等。
        膜厚仪技术参数
        测厚：10nm-250um； 250nm-1100nm之间任意波长可选择，在此范围内也可选择多波长分析；
        波长：250 -1100nm
        厚度范围：10nm--250m
        分辨率：0,1nm
        重复性：0,3n米
        准确率：<1[%] (100nm--100m)
        测试时间：100ms -- <1s
        分析层数：1-- 4
        距离光纤：1-5mm
        与光纤的距离：5mm-- 100mm
        入射角：90°
        光斑尺寸：400m